Número do item 793387

Equipamento de Gravura Plasma-Therm LLC SLR-770B


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Localização:  CA, Estados Unidos

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Descrição do equipamento
Plasma-Therm LLC SLR-770B Deep Reactive Ion Etcher
Manufacturer....Plasma Therm. Inc
Model SLR- 770B
Ser. # PTI 81068F
Date of manufacture.. 10/20/1998
DRIE is 4” with 6” Kit

The DRIE was used for the Bosch process only.
Gasses connected are:-
Argon, for maintaining plasma.
Sulfur Hexafluoride (SF6), for Silicon etching.
Octafluorocyclobutane(C4F8) for passivation layer.
Oxygen(O2), for chamber clean.
Nitrogen (N2), for venting.

Etching silicon using photoresist mask.

Especificações:
Padrão
Métrico
Nome do fabricante
Plasma-Therm LLC
 

Ano:
10 20 1998
10 20 1998

Número de Série:
PTI 81068F
PTI 81068F

Modelo:
SLR-770B
SLR-770B


Dimensões:
Padrão
Métrico

Total:
8 x 8 x 6 FT - 2200 LBS
243,84 x 243,84 x 182,88 cm - 997,92 kg

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CA

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