Número do item 691825

Equipamento de Gravura Tegal - OEM Group, Inc 6550


Moeda Aceitável de Vendedores:

$99,250.00 USD

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Localização:  CA, Estados Unidos

Nível de Remoção:  

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Descrição do equipamento
Tegal 6550 Etcher System

RIE system, 8", this has only been used in a demo lab at the OEM
Configured to support MRAM development
Platform: Rinse / strip, through-the-wall, signal tower, CE Marked
PDM: Standard
AC Supply: 400V, 3 Phase, 50 Hz, 5 Wire (Can be easily configured for USA operation)

System includes:
(Qty 2) Patented Spectra Plasma Process Modules
Standard Ceramic Electrostatic Clamp (200mm)
High Temp. Electrostatic Clamp (200mm)
(Qty 2) Integrated Diode Array Optical Analyzers
(Qty 2) Recirculating Temperature Control Units
Vacuum Cassette Elevator Loadlock
Core Vacuum Transport Module w/ Robot
Wafer Aligner Module
ICP Strip Process Module
Spin-Rinse/Dry Process Module
Atmospheric Transport Module w/ Robot
Remote RF Generator Cabinet
Remote Power Distribution Module
Integrated Human Interface and Control System
Remote LCD Interface Module
Cleanroom Signal Tower (3 Color Standard)

Transport:
Shape: Round
Standard: SEMI
Size: 8"
Align: Notch
Material: Silicon
Thickness: SEMI

PM 1: Spectra 1.0, Special HT-ESC
MFC Type: Mykrolis Tylan FC2900
Gas 1: BCl3, 0-200sccm
Gas 2: Cl2, 0-50sccm
Gas 3: SF6, 0-50sccm
Gas 4: HBr, 0-50sccm
Gas 5: CF4, 0-50sccm
Gas 6: Ar, 0-200sccm
Gas 7: He (Water temperature control)
LF Generator: 600 watts
HF Generator: 1200 watts
Gas injection: Open ring
PM turbo pump: 1000L/s
End point: Diode array
LE Temp range: Filtered house cooling water

PM 2: Spectra, Special High vacuum mod's
MFC Type: Mykrolis Tylan FC2900
Gas 1: Spare
Gas 2: Spare
Gas 3: He, 0-200sccm
Gas 4: Spare
Gas 5: Ar, 0-100+sccm
Gas 6: Ar, 0-500+sccm
Gas 7: He (Water temperature control)
LF Generator: 300 watts
HF Generator: 1200 watts
Gas injection: Open ring
PM turbo pump: 1000L/s
End point: Diode array
LE Temp range: Noah Precision: Galden PFPE HT170

PM 3: ICP Strip Module
MFC Type: Millipore Tylan 2900
Gas 1: O2, 0-2000sccm
Gas 2: N2, 0-500sccm
Gas 3: He, 0-500sccm

PM4: DI Water Rinse module

Gas 3 for PM3 (strip) and Gas 4 for PM2 (etch) is a pre-mix of 4% H2 in Helium for passivation treatment
Gas 5 for PM2 (etch) is a pre-mix of 0.1% +/- 0.005% O2 in Ar for stop on barrier etch
(Rev 5) Add 50sccm SF6 MFC (UNIT) for Gas 3 in PM1

Chambers:
ICP Cl2 / CFxHy etch chamber (primary etch chamber)
ICP low-voltage Ar mill "SOM"
Anti-corrosion treatment used with He / H2 or N2 / H2
Anti-corrosion Water rinser
O2-based asher

Edwards QDP-40,80
Gas reactor column - Edwards M150

~2003 vintage.

Especificações:
Padrão
Métrico
Nome do fabricante
Tegal - OEM Group, Inc
 

Ano:
2003
2003

Número de Série:
104660
104660

Modelo:
6550
6550

Tensão:
400 VOLTS
400 VOLTS

Frequência:
50 HERTZ
50 HERTZ

Fase:
3
3

Forma Recomendável da Embalagem:
PALLET CUSTOMIZADO
PALLET CUSTOMIZADO


Dimensões:
Padrão
Métrico

Veja todas as dimensões do item

Item #1:
72 x 120,00 x 94,00 IN - 0,06 LBS
72,00 x 120,00 x 94,00 IN - 5.500,00 Pounds

Item #2:
50 x 50,00 x 51,00 IN - 0,02 LBS
50,00 x 50,00 x 51,00 IN - 1.550,00 Pounds

Item #3:
48 x 36,00 x 87,00 IN - 0,01 LBS
48,00 x 36,00 x 87,00 IN - 1.100,00 Pounds

Item #4:
48 x 48,00 x 68,00 IN - 0,01 LBS
48,00 x 48,00 x 68,00 IN - 1.230,00 Pounds

Item #5:
60 x 48,00 x 81,00 IN - 0,02 LBS
60,00 x 48,00 x 81,00 IN - 2.225,00 Pounds

Total:
278 x 120 x 94 IN - 11605 LBS
7061,20 x 3048,00 x 2387,60 mm - 5264,03 kg

aviso Legal

Este lote se vende "no estado em que se encontra". Recomendamos que contate um representante de vendas da EquipNet para agendar uma inspeção. Este artigo se encontra em

CA

Este equipamento está sujeito a taxas de desinstalação e remoção.

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