NO. de listado 1080130
Sala Blanca Jeol JBX-5500FS Electron Beam Lithography System
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$75,000.00 USD
Realizar OfertaUbicación: Reino Unido
Nivel de Remoción:
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Documentos del activo
Descripción del equipo
The JBX-5500FS is an electron-beam lithography system that employs spot-beam vector scanning for sub-micron and nano-lithography.
This has two selectable writing modes: High-resolution writing mode (5th Lens mode) for nano-lithography and High-speed writing mode (4th Lens mode) for sub-micron lithography. And the accelerating voltage is also selectable either 25kV or 50kV.
The beam scanning speed is up to 12MHz and it realizes high-speed electron-beam lithography.
The stage moving system employs step-and-repeat method and the stage position is controlled by high-precision laser interferometer. This stage can load a wafer substrate up to 4 inches.
The control system of the JBX-5500FS employs Microsoft® Windows® PC. The graphical and streamlined user-interface from pattern design to writing enables easy operation.
Especificaciones:
Dimensiones:
Aviso Legal
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Europe
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