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Refacción para Semiconductor Hitachi Dry Etch / Plasma Asher unit (2019)


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Descripción del equipo
We are offering a 2019 Hitachi High-Technologies plasma Asher unit, manufactured in Japan and configured for high-current operation (150A, 3Ø AC 208V). Product Details Hitachi HS 9050 Asher, 12’’ -Multi chamber -Asher/Etch chambers (5) -Cooling chambers (2) -Transfer modules -HDD removed -No software -Copper - Mini-Environment Wafer Loading Module (EFEM) This system is suitable for: • Capacity expansion • Legacy line support • R&D and pilot production • Replacement of ageing etch platforms Manufactured in 2019, this is a modern, high-performance platform ideal for facilities seeking reliable dry etch capability without extended OEM lead times. Full specifications, configuration details and additional images are available upon request.

Especificaciones:
Estándar
Métrico
Fabricante
Hitachi
 

Número de serie:
19QA36301
19QA36301

Modelo:
Dry Etch / Plasma Asher unit (2019)
Dry Etch / Plasma Asher unit (2019)


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